SEMICON China 2026：北方华创、中微公司新品引爆展区，国产设备瞄准AI与先进工艺

在上海SEMICON China 2026半导体展上，N3设备展区成为绝对的人气中心。北方华创与中微公司的展台被观众和潜在客户层层包围，现场异常火爆。这种热度不仅来自行业对国产设备进展的关注，更直接指向了AI浪潮下全球晶圆产能扩张所带来的巨大设备需求。两大头部厂商选择在此发布关键新品，意图明确：抢占先进工艺制程的制高点。

北方华创现场发布了全新一代12英寸高端ICP刻蚀设备NMC612H。该设备搭载全国产超百区独立控温静电卡盘及自主温控算法，将小尺寸刻蚀的深宽比提升至数百比一，均匀性进入埃米级。公司宣称，这标志着其技术已能满足更先进节点的芯片制造要求，以应对AI时代的需求。中微公司则一口气推出四款新产品，覆盖硅基及化合物半导体关键工艺。其新一代ICP刻蚀设备Primo Angnova旨在满足5纳米及以下逻辑芯片和先进存储芯片的严苛要求；而高选择性刻蚀机Primo Domingo的推出，则被定位为填补了国内在下一代3D半导体器件制造中关键刻蚀工艺的自主化空白。

展会的火爆景象背后，是国产半导体设备商在关键领域持续突破的集中展示。从北方华创控股芯源微以丰富产品线，到中微公司完善刻蚀、薄膜沉积及核心零部件的系统化解决方案，头部厂商正试图构建更完整的竞争力。与此同时，上海微电子展出的110纳米光刻机，则代表了在成熟制程与封装领域的稳固布局。尽管去年参展的新凯来今年意外缺席，但其子公司仍有亮相。整体而言，展会人气印证了行业对本土供应链技术进展的高度关注，以及在全球产能扩张周期中，国产设备商所面临的历史性窗口与挑战。