中微公司2025年营收大增三成，拟并购杭州众硅补强湿法工艺短板

中微半导体设备（上海）股份有限公司（中微公司）2025年业绩强劲增长，全年营收达123.85亿元，同比增长36.62%，净利润21.11亿元，增长30.69%。刻蚀设备作为核心业务，销售额约98.32亿元，同比增长35.12%，全球反应台出货量已超6800台，覆盖从65纳米到3纳米及更先进制程的各类刻蚀场景。值得注意的是，其薄膜沉积设备（LPCVD）业务迎来爆发，销售额约5.06亿元，同比激增224.23%，成为驱动增长的新引擎。

在技术层面，中微公司自主研发的CCP和ICP刻蚀设备已覆盖95%以上的三百多种刻蚀应用需求。其中，60比1超高深宽比刻蚀设备已在存储器生产线实现稳定大批量生产，使其成为国内极少数能全面覆盖此类高难度需求的供应商。ICP双台机的重复性和匹配精度达到皮米级控制水平，新开发的晶圆边缘刻蚀设备和金属刻蚀机也已进入客户端验证。

在业绩高歌猛进的同时，中微公司宣布拟并购杭州众硅电子科技有限公司，旨在补齐其在“湿法工艺领域”的短板。此举表明，中微公司正从刻蚀和薄膜沉积两大核心设备领域，向更广泛的半导体前道工艺设备组合拓展，以应对全球刻蚀与薄膜沉积设备合计占晶圆制造设备价值量约45%的市场格局，并强化其在国内半导体设备产业链中的综合竞争力。