中微公司一季度净利润暴增近2倍：先进刻蚀设备出货放量，营收增速连续14年超35%

半导体刻蚀设备龙头中微公司（688012）披露2026年第一季度财务数据，期内实现营业收入29.15亿元，同比增长34.13%；归属于上市公司股东的净利润达9.30亿元，同比大幅增长197.20%。这一增速在半导体设备行业中极为突出，进一步巩固了中微公司在国产高端刻蚀装备领域的领先地位。

业绩高增背后，核心驱动力来自先进制程设备的放量。公告显示，第一财季公司针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升，先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储器件超高深宽比刻蚀工艺已实现量产。与此同时，中微公司为先进存储及逻辑器件开发的LPCVD、ALD等多款导体和介质薄膜设备已顺利进入市场，薄膜设备覆盖率持续扩大，新增付运量保持快速增长，并在客户端持续应用于迭代产品。值得关注的是，公司本期出售了部分持有的拓荆科技股份有限公司股票，产生税后净收益约3.97亿元，是净利润高增的另一重要因素。

技术端进展同样密集。公告披露，公司累计已有超过8300个反应台在国内外180余条客户芯片及LED生产线全面量产。针对超高深宽比刻蚀工艺完全自主开发的刻蚀机已有300多台反应器实现稳定可靠大规模量产。CCP方面，下一代90:1超高深宽比低温刻蚀设备已运付客户端验证；ICP方面，第二代ICP刻蚀设备Primo Angnova™在3D DRAM应用中取得140:1高深宽刻蚀结果和形貌控制能力，并付运至国内领先存储客户端认证。全新化学气相刻蚀设备Primo Domingo™实现大于700:1的业界领先SiGe/Si高选择比，已应用于GAA和3D DRAM制程。第一季度公司研发支出9.08亿元，较去年同期增长约32.15%，研发占营收比例约31.14%。